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“光刻技術(shù)”回應(yīng)存虛假性 蘇大維格要被政紀(jì)處分
證券時報記者 李曼寧
因涉及“光刻技術(shù)”誤導(dǎo)性陳述，蘇大維格正被追究責(zé)任。10月12日夜間，蘇大維格（300331）公布深交所關(guān)注函，企業(yè)在互動易平臺對相關(guān)“光刻技術(shù)”有關(guān)回應(yīng)遭受新聞媒體和投資者普遍懷疑，從而引起股票價格大幅波動，因涉嫌存有與事實(shí)不符、有誤、不全面情況及誤導(dǎo)性陳述，銷售市場性質(zhì)惡劣，交易中心將會對蘇大維格以及相關(guān)違反規(guī)定被告方運(yùn)行政紀(jì)處分程序流程。
此“光刻技術(shù)”非彼“光刻技術(shù)”的誤導(dǎo)性陳述起源于上市公司在互動易平臺的一系列描述?！捌髽I(yè)光刻技術(shù)并實(shí)現(xiàn)向國內(nèi)領(lǐng)頭芯片公司銷售業(yè)務(wù)，并已經(jīng)實(shí)現(xiàn)向日本、韓、非洲等國出入口”、“集團(tuán)公司已關(guān)注到納米壓印光刻技術(shù)在集成電路芯片和芯片生產(chǎn)行業(yè)具有取代傳統(tǒng)光刻技術(shù)的使用發(fā)展?jié)摿Γ⑶以诜e極拓展”，蘇大維格9月14日中午的上述表明，立即點(diǎn)燃熱點(diǎn)板塊。
當(dāng)天中午開盤后，蘇大維格股票價格即獲大幅拉升，并奪得20%股票漲停收在33.12元/股，當(dāng)日成交量做到15.55億人民幣。
9月15日一早，深圳交易所就向蘇大維格下達(dá)關(guān)注函，要求其補(bǔ)充披露所生產(chǎn)光刻設(shè)備的實(shí)際種類、核心客戶及下游用途等難題，并進(jìn)一步提醒相關(guān)風(fēng)險。
當(dāng)日夜間，蘇大維格公布了線上半年度報業(yè)績說明會會議紀(jì)要，目前對光刻設(shè)備難題有一定的回復(fù)。公告顯示，企業(yè)高端智能裝備包含直寫光刻技術(shù)、3D光刻技術(shù)、投射/掃描儀光刻技術(shù)、納米壓印光刻設(shè)備等，一部分直寫光刻設(shè)備已向國內(nèi)外高校及科研單位、國內(nèi)公司等市場銷售。目前，企業(yè)光刻設(shè)備營銷額比較有限，一部分主要用途離國際領(lǐng)先水平具有一定差別，需要持續(xù)的研發(fā)投入。
更多業(yè)務(wù)流程小細(xì)節(jié)即在問詢函回復(fù)中才解開。10月8日夜間，蘇大維格詳盡回應(yīng)了有關(guān)問題。
據(jù)了解，光刻工藝是當(dāng)代半導(dǎo)體材料、顯示板、光電材料等領(lǐng)域的產(chǎn)品生產(chǎn)過程中必不可少的工藝流程之一。從曝光方法上，光刻技術(shù)可分為掩膜光刻技術(shù)（在運(yùn)行中均需要用到掩模版），包含觸碰/達(dá)到式光刻技術(shù)，投影式光刻技術(shù)等；以及無掩膜光刻技術(shù)，即直寫光刻技術(shù)，包含離子束光刻技術(shù)、激光直寫光刻技術(shù)、激光器立即成像設(shè)備等。半導(dǎo)體材料及平板顯示器生產(chǎn)制造普遍使用“直寫光刻技術(shù)制做掩膜+投射光刻技術(shù)快速復(fù)制”的工藝流程。
蘇大維格直言，一般所指的光刻機(jī)也是有掩膜光刻技術(shù)里的投影式光刻技術(shù)，與企業(yè)生產(chǎn)的激光直寫光刻技術(shù)不屬于同一技術(shù)方案。公司自2001年上下開始研發(fā)各種光刻設(shè)備，包含激光直寫光刻技術(shù)、納米壓印設(shè)施等，上述情況機(jī)器設(shè)備主要運(yùn)用于微納光學(xué)產(chǎn)品與衍射光學(xué)元器件生產(chǎn)制造，企業(yè)生產(chǎn)的光刻設(shè)備現(xiàn)階段不屬于集成電路芯片行業(yè)產(chǎn)品的生產(chǎn)制造。
除此之外，蘇大維格開發(fā)生產(chǎn)的激光直寫光刻設(shè)備目前主要是自購，企業(yè)對外銷售的額度比較小，2022年完成對外開放銷售額約770.93萬余元，2023年上半年度對外開放銷售額約2177.27萬余元。
就公司光刻設(shè)備是否能直接用于芯片開發(fā)及生產(chǎn)制造，蘇大維格表明，企業(yè)光刻設(shè)備現(xiàn)階段不屬于集成電路芯片行業(yè)產(chǎn)品的生產(chǎn)制造，這一部分市場被龍頭企業(yè)企業(yè)核心和壟斷性。企業(yè)光刻設(shè)備關(guān)鍵為自用以各種微納光學(xué)產(chǎn)品與衍射光學(xué)元器件生產(chǎn)制造，對外開放銷售額比較小，外部客戶購置主要運(yùn)用于有關(guān)領(lǐng)域的研發(fā)、研發(fā)和微納光學(xué)材料及生產(chǎn)制造。企業(yè)激光直寫光刻設(shè)備在最少線距、線距勻稱度、網(wǎng)格圖精密度、可靠性等關(guān)鍵技術(shù)主要參數(shù)與同行業(yè)龍頭企業(yè)對比存在較大差距。
在監(jiān)管咨詢下，蘇大維格在回復(fù)函中也進(jìn)行了道歉。公司證券單位在回復(fù)有關(guān)互動易問題的時候，直接用了“光刻技術(shù)”、“領(lǐng)頭芯片企業(yè)”等可能會引起誤解的描述，無法兼顧到部分投資者可能會對光刻技術(shù)的技術(shù)路線、相關(guān)技術(shù)的實(shí)際主要用途等狀況不太了解，未詳細(xì)描述企業(yè)光刻設(shè)備的實(shí)際種類，公司主要的應(yīng)用范圍，與龍頭企業(yè)之間的差距，以及用戶適用范圍等相關(guān)信息；也未說明各種設(shè)備收入占企業(yè)收入比例比較低，未充分提醒相關(guān)風(fēng)險。對于此事，公司及證劵單位誠摯給投資者深表歉意，并把積極主動吸取教訓(xùn)，進(jìn)一步完善管理制度和流程等。
此次問詢函回應(yīng)公布之時，蘇大維格還發(fā)布接到證監(jiān)會的立案通知。因蘇大維格因涉嫌信息披露違法違規(guī)，證監(jiān)會決定將蘇大維格立案查處。
蘇大維格表明，立案查處期內(nèi)，企業(yè)將積極配合中國證監(jiān)會的專項調(diào)查，并嚴(yán)格按照監(jiān)管政策履行信息披露義務(wù)?，F(xiàn)階段，公司各項經(jīng)營活動順利開展。
二級市場上，蘇大維格最近股票價格震蕩下跌，市場價24.82元/股，已跌回上述情況“光刻技術(shù)”定義歡樂前水平。
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